扫描电镜样品热损伤

扫描电镜电子束持续轰击低热导率样品时，会产生样品热损伤问题。

扫描电镜边缘增强假象

扫描电镜观测带有陡峭台阶结构样品时，容易出现边缘增强假象。

无掩膜光刻机在加工微小密集线条阵列时，会出现图形各向异性偏差，平行与垂直方向的线条线宽不一致。

无掩膜光刻机使用单色光源进行投影曝光时，容易在光刻胶层内部产生驻波效应，直接影响图形轮廓质量。

扫描电镜观测具有高低落差的样品时，容易出现图像景深不足问题。

扫描电镜长时间连续采集图像时，会出现二次电子信号衰减现象。

无掩膜光刻机长时间连续曝光作业时，光源、运动平台持续发热，热量传导至基底，造成基底热变形，直接引发多层结构套刻偏差。

无掩膜光刻机采用 DMD 数字微镜阵列进行图形投影曝光，当照明光路出现偏差时，会出现曝光光斑均匀性不足的问题。